蒸氣二流體清洗技術及光阻剝離設備

Two-Fluid Steam Cleaning / Photoresist Removal Solution

蒸氣二流體清洗技術,實現高效環保的光阻剝離

因應光阻剝離與聚合物清洗製程需求,此設備採用 蒸氣二流體取代傳統胺類剝離藥劑, 可在完成光阻與聚合物去除的同時,減少化學藥液使用量。

透過 製程步驟整合一次性清洗完成環保低污染設計高效清洗能力, 可將傳統需多段處理的製程整合為快速清洗流程, 協助客戶降低製程成本並提升清洗穩定性。

蒸氣二流體清洗 光阻剝離 聚合物去除 取代胺類藥劑 降低藥液使用 環保低污染